برای افزایش کیفیت لایه نازک های ایجاد شده با استفاده از روش های لایه نشانی در خلاء تکنیک های مختلفی وجود دارد. زاویه دار کردن نگهدارنده زیرلایه چرخان نسبت به کاتد در حین فرایند لایه نشانی به روش اسپاترینگ تکنیکی است که تحت عنوان Glad Sputtering در صنعت لایه نازک استفاده می شود. با تغییر زاویه نگهدارنده زیرلایه نسبت به کاتد و همچنین تغییر پارامترهایی مثل سرعت چرخش زیرلایه، فشار محفظه خلاء، دما و … می توان لایه نازک هایی را لایه نشانی کرد که دارای ساختارهای نانویی با هندسه های گوناگون(مثل مارپیچ، زیگزاگ، ستون های شیب دار و … ) هستند که پارامتر های آنها مثل اندازه و شکل قابل کنترل و تنظیم است.
ایجاد لایه نازک هایی با ساختارهای معماری شده نقش فراوانی در ویژگی های الکتریکی، اپتیکی، فتوولتاییک، میزان مساحت سطح ساختار برای استفاده در حسگر های بیولوژیکی و … دارد. سیستم های لایه نشانی تحت خلاء به روش اسپاترینگ که ساخت شرکت پوشش های نانوساختار هستند، مجهز به نگهدارنده زیرلایه با قابلیت چرخش و زاویه دار شدن نسبت به کاتد هستند. سرعت چرخش نگهدارنده زیرلایه در این سیستم ها و همچنین زاویه آن نسبت به کاتد به صورت دقیق قابل کنترل است. در نتیجه در هنگام لایه نشانی لایه نازک هایی از مواد گوناگون شامل فلزات، اکسید ها، نیمه رسانا ها و یا ترکیبی از آنها و .. می توان از تکنیک Glad Sputtering در این سیستم ها بهره جست و به منظور کاربرد های گوناگون، لایه نازک هایی با ساختار های نانویی معماری شده ایجاد کرد.
در صورتی که قصد استفاده از تکنیک Glad Sputtering را دارید حتما از صفحه محصولات شرکت پوشش های نانو ساختار دیدن نمایید.
