تکنولوژی لایه نشانی در خلاء، مجموعه ای گسترده از روش های مختلف لایه نشانی است که به منظور ایجاد یک یا چند لایه نازک چند نانومتری تا چند میکرومتری از مواد و ترکیبات مختلف روی سطوح گوناگون در محیط خلاء بالا به کار برده می شوند و کاربردهای گوناگونی درحوزه های مختلف صنعتی، آزمایشگاه های تحقیقاتی و فضایی و … دارند. به طور کلی، فرایند ایجاد لایه های نازک در شرایط خلاء شامل سه پارامتر اصلی است که عبارتند از: ماده هدف، زیرلایه و فرایند انتقال مواد از هدف به زیرلایه است. با توجه به اینکه عناصر، آلیاژها و ترکیبات مختلف ویزگی های فیزیکی و شیمیایی مختلفی دارند، انتخاب روش لایه نشانی مناسب و کارآمد یکی از نکات کلیدی در فرایند لایه نشانی به شمار می آید.
خواص فیلم نازک تولید شده به پارامترهای زیادی بستگی دارد مانند دمای لایه نشانی، ماهیت زیرلایه، ترکیب گاز باقیمانده در محفظه خلاء، نرخ لایه نشانی و … که با توجه به ویژگی ها و کاربردهای مد نظر از لایه نازک ایجاد شده، باید مورد بررسی و تحقیق قرار بگیرند. به منظور انتخاب روش مناسب برای لایه نشانی مواد گوناگون نیاز است تا مجموعه ای از اطلاعات در اختیار باشند که با توجه به ویژگی های ماده مورد نظر، میزان کارآمدی هر روش را برای لایه نشانی آن بیان کند.
به عبارتی هر ماده ای را با هر روشی نمی توان لایه نشانی کرد، برای این منظور جداولی تحت عنوان جدول لایه نشانی ایجاد شده اند تا به انتخاب هر چه بهتر کاربران سیستم های لایه نشانی در خلاء کمک نمایند. لازم است تا کاربران سیستم های لایه نشانی در خلاء قبل از اقدام به لایه نشانی هر ماده از صحیح بودن انتخاب روش لایه نشانی اطمینان حاصل نمایند.
