رسوب دهی شیمیایی بخار (Chemical Vapor Deposition(CVD)) یک فرایند شیمیایی است که به منظور ایجاد لایههایی با کاربردهای گوناگون بر روی سطوح مختلف استفاده میشود. در این روش لایه نشانی، سطح مورد نظر(زیرلایه) در معرض بخار یک یا چند ماده شیمیایی قرار میگیرد. سپس به منظور ایجاد لایه جامد با ترکیب شیمیایی مورد نظر، اتمهای گازی موجود در محفظه در سطح زیرلایه تجزیه شده یا با یکدیگر واکنش شیمیایی میدهند. این روش لایه نشانی با توجه به اینکه با چه روش شیمیایی آغاز میشود، به طرق مختلفی دستهبندی میشود.
با استفاده از لایه نشانی به روش رسوب شیمیایی بخار، میتوان نانو ساختارهای متنوعی را مانند نانوساختارهای سرامیکی، کاربیدها و نانولولههای کربنی ایجاد کرد. به دلیل سرعت بالای این روش، میتوان با استفاده از آن، نانوساختارهای مختلف را به صورت صنعتی تهیه کرد. اما از معایب این روش میتوان گفت که ایجاد و کنترل دما در این روش، با توجه به اینکه از دماهای بسیار بالا در آن استفاده میشود، دشوار است. گرادیان دمایی ایجاد شده باعث دشواری کنترل شکل و ساختار ذرات و لایه نازکهای ایجاد شده با این روش میشود و کیفیت نهایی لایه ایجاد شده را کاهش میدهد. به علاوه، انرژی مصرفی در روش Chemical Vapor Deposition بسیار زیاد است. از مزایای روش CVD نسبت به روش رسوب بخار فیزیکی(PVD) میتوان به ارزان بودن آن اشاره کرد.
محصولات شرکت پوششهای نانوساختار، در دسته سیستمهای لایه نشان به روش PVD قرار دارند. روشهای مختلف PVD، مثل اسپاترینگ، تبخیر حرارتی، لایه نشانی به کمک لیزر پالسی از جمله مکانیزمهایی هستند که دستگاه های لایه نشانی در خلاء ساخت شرکت پوششهای نانو ساختار مانند DSR1،DTT،DST3-T، برای ایجاد لایههای چند نانومتری تا چند میکرومتری، از آنها استفاده میکنند. در صورت تمایل به آشنایی بیشتر با محصولات شرکت، به آدرس اینترنتی آن مراجعه نمایید.