به مجموعه‌ای از روش‌های لایه نشانی در خلاء، که در حین آن‌ها ماده جامدی در محیط خلاء بخار می‌شود و بر روی زیرلایه به صورت لایه نازک(Thin Film) قرار می‌گیرد، رسوب دهی فیزیکی بخار (Physical Vapor Deposition (PVD)) می‌گویند. متداول‌ترین روش‌های PVD، اسپاترینگ و تبخیر حرارتی هستند. از آنجایی که در فرایند PVD، ماده مورد نظر به صورت اتم به اتم یا مولکول به مولکول در محیط خلاء به سطح زیرلایه منتقل و انباشته می‌شود، لایه‌های نازک با خلوص و کارایی بالا ایجاد می‌شود که برای بسیاری از کاربردها نسبت به سایر روش‌های لایه نشانی ارجحیت دارد.
مثلا در ساخت مهم‌ترین قسمت هر ریزتراشه و افزاره نیمه‌هادی، لایه‌های محافظ با دوام، لنز‌های نوری، پنل‌های خورشیدی و بسیاری از قطعات و ادوات پزشکی، لایه نشانی به روش PVD ، ویژگی‌های عملکردی اساسی را برای محصول نهایی فراهم می‌کند. به طور کلی هر جایی که نیاز به پوشش‌دهی با لایه‌های بسیار نازک، خالص، با دوام و تمیز است، PVD کلید حل مساله است.
لایه نشانی به صورت اتم به اتم در روش PVD امکان کنترل چگالی، استوکیومتری و ساختار اتمی لایه نازک را فراهم می‌کند. با استفاده از مواد مناسب و ایجاد شرایط خاص هنگام فرایند لایه نشانی، می‌توان پوشش‌هایی با ویژگی‌های مطلوب مثل سختی، نرمی و چسبندگی مناسب روی سطوح گوناگون ایجاد کرد. به عنوان مثال بعضی از پوشش‌های سخت یا اصطلاحا Hard Coatings می‌توانند موجب کاهش اصطکاک شده و از سطح زیرین خود در برابر آسیب محافظت کنند.
حوزه کاربردی این پوشش‌های کاهش دهنده اصطکاک گستردگی زیادی دارند، مانند صنایع هوا و فضا، دفاعی، خودرو، ابزار‌های برش، غلتک‌ها و بسیاری از موارد دیگر که کاهش اصطکاک در آن‌ها بسیار مهم است، همگی از جمله موارد کاربرد پوشش‌های ایجاد شده به روش PVD هستند.
همچنین پوشش‌هایی از نیترید تیتانیوم و نظایر آن نیز از جمله پوشش‌هایی هستند که علاوه بر زیبایی، در برابر سایش و خوردگی مقاومت بالایی دارند و از آن‌ها برای روکش‌دهی شیرآلات ساختمانی و دستگیره در‌ها که دائما در تماس با دست هستند، استفاده می‌شوند.
روش PVD شامل فرایندهای سازگار با محیط زیست است و در مقایسه با سایر روش‌های لایه نشانی مانند آبکاری‌های شیمیایی میزان استفاده از مواد اولیه سمی، واکنش‌های شیمیایی، دفع مواد شیمیایی حاصل از واکنش‌ها را به شدت کاهش می‌دهد.
از مزایای لایه نشانی به روش رسوب دهی فیزیکی بخار می‌توان به موارد زیر اشاره کرد:
از معایب PVD نیز می‌توان موارد زیر را بیان نمود:
دستگاه‌های لایه نشانی ساخت شرکت پوشش های نانو ساختار، با استفاده تکنیک‌های لایه نشانی به روش رسوب دهی فیزیکی بخار ، این امکان را برای کاربران فراهم آورده‌اند که بسته به کارایی مورد نظر خود، رنج وسیعی از مواد(جدول لایه نشانی مواد) را روی زیرلایه‌های گوناگون لایه نشانی کنند. امکان استفاده از دو تکنیک PVD ، در یک دستگاه لایه نشانی مشکلات خرید دستگاه‌های گوناگون برای لایه نشانی مواد مختلف را از بین برده است. سیستم ترکیبی لایه نشانی به روش اسپاترینگ و تبخیر حرارتی مدل DST3-T و سیستم ترکیبی لایه نشانی به روش اسپاترینگ و لایه نشان کربن از نخ و میله کربنی در مدل‌های DSCR و DSCT از جمله مدل‌های ترکیبی دستگاه‌های ساخت شرکت پوشش های نانو ساختار هستند. در صورت تمایل به مطالعه بیشتر در زمینه محصولات پوشش های نانو ساختار، به سایت شرکت مراجعه نمایید.
